Sistema de ablación láser basado en excímeros, ideal para materiales opacos y altamente transmisivos.

La utilización de una fuente láser de 193 nm de ancho de pulso corto, proporciona la potencia máxima más alta para una ablación eficiente de todos los materiales, y así producir partículas pequeñas que pueden ser transportadas e ionizadas de manera eficiente por el ICP-MS. El resultado: mayor sensibilidad, estabilidad mejorada y menos fraccionamiento.

Especificaciones:

Longitud de onda: 193 nm
Tasa de repetición: 1–200 Hz (ampliable a 500 Hz y 1000 Hz)
Fluencia: 15 J/cm2 en la superficie de la muestra
Tamaños de punto: 1–150 micras (ampliable a 250 micras)
Platina XY: 100 mm x 100 mm estándar